Вакуумные установки магнетронного распыления HC-PVD
Предназначены для:
• нанесения защитно-декоративных покрытий
• декоративной отделки деталей с защитой от коррозии
• функциональных покрытий – для придания специальных свойств поверхности деталей (износостойкости, твердости, электроизоляционных, магнитных и т.д.)
PVD метод позволяет наносить любые металлы, сплавы, оксиды, карбиды и нитриды c предварительной ионной очисткой/активацией поверхности, нагревом и ионным ассистированием в процессе напыления.
Технологические устройства:
• магнетрон — 4 шт.
• ионный источник — 1 шт.
• нагреватель — 1 шт.
Цилиндрическая камера оснащена двумя дверями для удобства выгрузки/загрузки и обслуживания технологических устройств.
Рабочая камера оснащена позиционируемой заслонкой технологических устройств.
Установка работает под управлением SCADA-системы, позволяющей управлять процессом как с экрана на передней панели установки, так и удалённо через защищённое VPN-соединение при наличии подключения к сети интернет.
Система обеспечивает разграничение прав доступа, сохранение всех технологических параметров в архив и их вывод в наглядном графическом представлении на экран установки.
| Наименование | Значение |
|---|---|
| Установленная мощность, кВт | 17 |
| Номинальная потребляемая мощность, кВт | 12 |
| Напряжение питания, В | 380 (+10-15)% |
| Максимальное потребление тока по фазам, А | 32 |
| Предельный вакуум, Па | 10^-4 |
| Рабочий вакуум, Па | 2х10^-3 |
| Время достижения предельного вакуума (с момента включения), мин | не более 60 |
| Максимальная температура нагрева, °С | 400 |
| Нестабильность поддержания температуры, % | 3 |
| Количество каналов газонапуска, шт. | 3 (опционально 6) |
| Скорость вращения барабана с изделиями, об/мин | 5 - 30 |