Специальное технологическое оборудование для проведения плазмохимических процессов

Компания САВТЭК разрабатывает и производит вакуумные установки плазмохимического травления, осаждения, удаления фоторезиста, реактивно ионного травления, плазменной очистки и активации поверхности.

Плазмохимическое удаление фоторезиста AVI-401-FV-4(PR)

Установки плазмохимического удаления фоторезиста серии AVI (PR)

Предназначены для плазмохимического удаления фоторезиста с кремниевых пластин и плазмохимических зачистки при создании СБИС чувствительных к протеканию тока, наведенного ионным пучком.

Базовая модификация состоит из кассетного загрузчика пластин, ВЧ источника удаленной плазмы, столика нагрева (ламповый), столика охлаждения, сухой откачной системы, 4 канальной газовой системы, АСУ ТП на базе промышленного компьютера с панелью оператора.

Вакуумная установка PECVD AVI-303-HV-5

Установки плазмохимического травления и осаждения серии AVI

Вакуумные установки серии AVI – это гибкие и оптимальные решения для организации научно-исследовательских работ, мелкосерийного и серийного производства выполненные на высокопроизводительной платформе, которая решает широкий круг задач плазмохимического травления и осаждения:

реактивное ионное травление (ВЧ, RIE);

реактивное ионное травление (DC, ионный источник с холодным катодом);

плазмохимического осаждения (PECVD, ПХО);

плазмохимическое травление с источником индуктивно-связанной плазмы (ICP Etch);

комбинированные процессы (ICP+RIE).

 

Мы будем рады ответить на любые ваши вопросы

Отправьте ваш запрос