Печь вакуумной пайки SAVTECH R4225

Опция: управление установкой с планшетного компьютера
Вариант исполнения: ИК-лампы, кварцевый столик
Печь вакуумной пайки SAVTECH R4225 предназначается для пайки изделий электронной промышленности в вакуумной и газовой средах.  Обладает увеличенной рабочей зоной  в сравнении с серийными  установкам R200 и  R300.

Основные показатели  установки соответствуют установленным для серии  R300. Дополнительно предусмотрены следующие параметры, необходимые для технологического процесса, в котором печь используется:
– Размер рабочей зоны: 420 мм  х 250 мм;
– Высота рабочей зоны: 100 мм;
– Боковые нагреватели для улучшения равномерности пайки высоких плат;
– Максимальная рабочая температура – 500 С;
– Подаваемые в рабочую камеру газы: Азот, Водород, пары муравьиной кислоты, формиргаз;
– Контроль равномерности температурного профиля нагревательного стола по 6 (шести) точкам.

Назначение:

 Печь вакуумной пайки SAVTECH R4225 предназначается для пайки изделий электронной промышленности в вакуумной и газовой средах.  Обладает увеличенной рабочей зоной  в сравнении с серийными  установкам R200 и  R300.

Технические параметры:

  Основные показатели  установки соответствуют установленным для серии  R300. Дополнительно предусмотрены следующие параметры, необходимые для технологического процесса, в котором печь используется:

– Размер рабочей зоны: 420 мм  х 250 мм;
– Высота рабочей зоны: 100 мм;
– Боковые нагреватели для улучшения равномерности пайки высоких плат;
– Максимальная рабочая температура – 500 С;
– Подаваемые в рабочую камеру газы: Азот, Водород, пары муравьиной кислоты, формиргаз;
– Контроль равномерности температурного профиля нагревательного стола по 6 (шести) точкам.