Установки групповой термической обработки пластин FALCON 5
Применяются в процессах: термического отжига, химического осаждения из газовой фазы (LPCVD, MOCVD) поликристаллического кремния,Si3N4, эпитаксии, низкотемпературного оксидирования (LTO), термического окисления SiO2, диффузии, процессов TEOS, POCl3, TCA, выращивания графитовых нанотрубок, осаждения молекулярных слоёв.
Настольная серия вакуумных печей FALCON представляет из себя оптимальный вариант компактных размеров и эффективной работы. Модульная конструкция позволяет устанавливать рабочие камеры друг на друга и объединять в единую систему управления и энергоснабжения.
Для выполнения определенных технологических процессов заказчика, стандартное исполнение печей можно расширить дополнительными опциями и оснасткой.
Используется для опытного производства для термоиспытаний и разработки технологических процессов.