Установка газофазной эпитаксии SAVTECH SOURCE VPE
Установка газофазной эпитаксии кремния при пониженном давлении предназначена для эпитаксиального наращивания слоёв кремния из газовой фазы в том числе с легирующими добавками.
Установка состоит из следующих основных систем и узлов:
- Реакторный блок (РБ);
- Система вакуумной откачки;
- Газовая система;
- Шкаф управления;
- Шкаф пневматики;
- Система охлаждения.
В передней части РБ расположен герметичный перчаточный бокс со шлюзом для загрузки и выгрузки пластин. Шлюз и основной объем перчаточного бокса подключены к линии продувочного азота. При продувке газ отводится к скрубберу. Так же в объеме перчаточного бокса предусмотрен режим рециркуляции газа.
Кварцевый водоохлаждаемый реактор вертикального типа расположен в верхней части установки. Вакуумноплотный, неподвижный. Пьедестал для размещения пластин — полая пирамида из ОСЧ графита, карбидизированная. Основание реактора выполнено подвижным для осуществления загрузки/выгрузки. Управление вращением доступно как в автоматическом режиме по программе, так и вручную по нажатию кнопки внутри реакторного отсека для удобства загрузки пирамиды пластинами.
Система вакуумной откачки выполнена на базе пластинчато-роторного насоса. Выхлоп насоса выведен в линию скруббера.
Газовая система установки предназначена для подачи рабочих газов в реактор и продувки газовых линий. Газовые линии выполнены из электрохимполированных стальных нержавеющих труб.
Система охлаждения узлов и агрегатов Установки – жидкостная, замкнутая.
Система управления построена по трёхуровневому принципу построения АСУ ТП. На нижнем уровне задействованы датчики вакуума, температуры, протока, положения и т. д. Средний уровень выполнен на базе промышленного логического контроллера и модулей расширения. К верхнему уровню относятся: управляющий компьютер, расположенный в шкафу управления, сенсорный монитор, клавиатура с сенсорной панелью ввода.
Система управления обеспечивает управление устройствами Установки с экрана сенсорного дисплея в автоматическом, или в полуавтоматическом режиме (по команде оператора). Предусмотрены операционные блокировки для корректной работы оборудования и аварийные блокировки для защиты систем и механизмов Установки от повреждения, а также защиты жизни и здоровья персонала исходя из требований техники безопасности.
Технические характеристики
| Параметр | Значение | |
| Потребляемая мощность (макс.), кВт | 7 (без ВЧ-генератора, скруббера) | |
| Напряжение питания, В | 380±10% | |
| Частота электрической сети, Гц | 50±1 | |
| Габаритные размеры ДхШхВ, мм, не более | 3450х3600х2400 | |
| Общая масса установки, кг, не более | 7500 | |
| Рабочее давление воды Бар, не более | 4 | |
| Расход воды м3/час | 1,5-3 | |
| Давление газов в реакторе, мм рт. ст. | 100..760 | |
| Толщина выращиваемых эпитаксиальных слоев, мкм | 0,05…8 | |
| Уровень легирования слоёв, см-3 | 1013 — 1020 | |
| Максимальная температура нагрева пластин, не менее, °С | 1200 | |
| Тип нагрева | индукционный | |
| Расстояние между витками индуктора | регулируемое | |
| Неравномерность температуры по пьедесталу, не хуже | ±3°С | |
| Количество одновременно обрабатываемых пластин, шт | Ø60 мм | 6 |
| Ø76 мм | 5 | |
| Материал пьедестала | графит ОСЧ карбидизированный | |
| Материал реактора | кварц | |
| Тип реактора | Вертикальный неподвижный | |
| Загрузка реактора | Обеспечивается спуском основания реактора | |
| Остаточное давление в реакторе, мм.рт.ст. | 3х10-2 | |
| Скорость вращения пьедестала | Регулируемая, до 10 об/мин | |
| Передача вращения от двигателя в реактор | Герметичная без сальников, магнитная | |
| Класс воздушных фильтров рециркуляции среды в реакторном отсеке | ISO 5 | |
| Режимы воздухообмена в реакторном отсеке | Продувка, циркуляция | |
| Максимальный размер бокса для пластин, помещаемого в шлюз, (ДхШхВ), мм: | 155х85х90 | |
