Установки групповой термической обработки пластин FALCON 25
Применяются в процессах: термического отжига, химического осаждения из газовой фазы (LPCVD, MOCVD) поликристаллического кремния,Si3N4, эпитаксии, низкотемпературного оксидирования (LTO), термического окисления SiO2, диффузии, процессов TEOS, POCl3, TCA, выращивания графитовых нанотрубок, осаждения молекулярных слоёв.
| Наименование | Значение |
| Диапазон рабочих температур, °С | 350 — 1300 |
| Количество зон нагрева, шт. | 3 |
| Максимальная загрузка, шт. | 25 |
| Диаметр обрабатываемых пластин, мм | 100, 150 или 200 |
| Предельный вакуум, Па | 1 (опционально 10-4) |
| Равномерность температуры по длине рабочей зоны, °С | ±0,5 |
| Габаритные размеры не более, ДхШхВ, мм | 2080х961х2406 |
