Установка SAVTECH PC-150 предназначена для очистки поверхности электронных компонентов от загрязнений в ВЧ-плазме газового разряда. Также применяется в серийном производстве для травления Si3N4 с поверхности кремниевых пластин.
Технические характеристики
- Объем: 150 л;
- Внутренние размеры камеры: 530х580х675 мм;
- Количество электродов: 11 шт.;
- Шаг между электродами: 40 мм;
- Материал: Алюминий;
- Рабочая зона электрода: 400х500 мм;
- Частота ВЧ-генератора: 13,56 МГц;
- Максимальная мощность: 1000 Вт;
- Сухой вакуумный насос производительностью 80 м3/час;
- Количество регуляторов расхода газа: 3 шт.;
- Диапазон регулировки потока: от 0 до 300 ст. куб. см.
- Программируемый логический контроллер и графический интерфейс управления на основе сенсорного экрана;
- Документирование процесса обработки для последующего анализа и контроля.
- Габаритный размер: 1010х1120х1715 мм.
Установка SAVTECH PC-150 предназначена для очистки поверхности электронных компонентов от загрязнений в ВЧ-плазме газового разряда. Также применяется в серийном производстве для травления Si3N4 с поверхности кремниевых пластин.
