/ Установки магнетронного напыления HC-PVD

Установки магнетронного напыления HC-PVD

Предназначены для:
• нанесения защитно-декоративных покрытий
• декоративной отделки деталей с защитой от коррозии
• функциональных покрытий – для придания специальных свойств поверхности деталей (износостойкости, твердости, электроизоляционных, магнитных и т.д.)

 

PVD метод позволяет наносить любые металлы, сплавы, оксиды, карбиды и нитриды c предварительной ионной очисткой/активацией поверхности, нагревом и ионным ассистированием в процессе напыления.

Оставить заявку

Технологические устройства:
• магнетрон — 4 шт.
• ионный источник — 1 шт.
• нагреватель — 1 шт.

Цилиндрическая камера оснащена двумя дверями для удобства выгрузки/загрузки и обслуживания технологических устройств.
Рабочая камера оснащена позиционируемой заслонкой технологических устройств.
Установка работает под управлением SCADA-системы, позволяющей управлять процессом как с экрана на передней панели установки, так и удалённо через защищённое VPN-соединение при наличии подключения к сети интернет.
Система обеспечивает разграничение прав доступа, сохранение всех технологических параметров в архив и их вывод в наглядном графическом представлении на экран установки.

 

Наименование Значение
Установленная мощность, кВт 17
Номинальная потребляемая мощность, кВт 12
Напряжение питания, В 380 (+10-15)%
Максимальное потребление тока по фазам, А 32
Предельный вакуум, Па 10^-4
Рабочий вакуум, Па 2х10^-3
Время достижения предельного вакуума (с момента включения), мин не более 60
Максимальная температура нагрева, °С 400
Нестабильность поддержания температуры, % 3
Количество каналов газонапуска, шт. 3 (опционально 6)
Скорость вращения барабана с изделиями, об/мин 5 — 30