/ Наши работы

Печь вакуумной пайки SAVTECH R320LC

Установка вакуумной пайки предназначена для герметизации металлокерамических корпусов всех типов методом пайки в вакууме, монтажа кристаллов на припои и пасты в гибридных микросборках, в изделиях силовой электроники.

 

Камера повышенно-пониженного давления и температуры SAVTECH APT200

Камера повышенно-пониженного давления и температуры SAVTECH APT200 предназначена для испытания изделий микроэлектроники и материалов при воздействии повышенной и пониженной температуры, повышенного и пониженного атмосферного давления.

Система плазменной очистки SAVTECH PC-150

Установка SAVTECH PC-150 предназначена для очистки поверхности электронных компонентов от загрязнений в ВЧ-плазме газового разряда. Также применяется в серийном производстве для травления Si3N4 с поверхности кремниевых пластин.

Установка вакуумной пайки SAVTECH R650MC

Печь  SAVTECH R650MC для групповой вакуумной пайки радиоэлектронных компонентов с технологией замещающей атмосферную водородную пайку. Размер рабочей зоны нагревательной платформы 640х320 мм позволяет загружать одновременно до 150-200 изделий.

Печь вакуумной пайки SAVTECH R4225

Печь вакуумной пайки SAVTECH R4225 предназначается для пайки изделий электронной промышленности в вакуумной и газовой средах.  Обладает увеличенной рабочей зоной  в сравнении с серийными  установкам R200 и  R300

Установка вакуумно-нагнетательная SAV APT-75

Установка предназначена для испытания кабельных изделий и изделий ЭКБ на воздействие переменного давления

Установка SVT HERM опрессовки, проверки на герметичность, обезгаживания и заполнения изделий газовой смесью

Установка обеспечивает подготовку изделий, контроль герметичности изделий и заполнение их смесью газов с контролируемым парциальным давлением

Установка реактивного ионного травления SAVTECH AVI204

Установка SAVTECH AVI204 предназначена для реализации высокоскоростного травления диэлектриков, кремния, полупроводниковых структур, металлов.

Установка вакуумного напыления U-RTD311

Установка U-RTD311 предназначена для резистивного осаждения алюминия и оксида кремния на поверхности деталей.