Установка SAVTECH AVI204 предназначена для реализации высокоскоростного травления диэлектриков, кремния, полупроводниковых структур, металлов.
Установка с рабочей камерой размером 300х300х300 мм оборудована подвижным столиком, на котором размещаются подложки. Перемещение столика осуществляется в автоматическом режиме.
Установка оснащена источником ионов с замкнутым дрейфом электронов и системой вакуумной откачки на основе сухих спирального и турбомолекулярного насосов. Управление установкой осуществляется с рабочего места, оборудованного персональным компьютером.
Технические параметры
- Источник ионов с замкнутым дрейфом электронов, с диаметром пучка ионов 50 мм с равномерностью по сечению пучка – 20 %;
- Напряжение 1000-3000 В;
- Ток 30-300 мА;
- Безмаслянная система вакуумной откачки обеспечивает предельный вакуум 10^-5 Торр;
- Контролируемая посредством цифровых расходомеров подача рабочих газов с возможностью получения; смеси необходимой концентрации;
- Количество подведенных газовых каналов: 2 шт.;
- Автоматическая система управления.
Установка SAVTECH AVI204 предназначена для реализации высокоскоростного травления диэлектриков, кремния, полупроводниковых структур, металлов.
