Вакуумные установки магнетронного распыления HC-PVD


Установки предназначены для:
• нанесения защитно-декоративных покрытий
• декоративной отделки деталей с защитой от коррозии
• функциональных покрытий – для придания специальных свойств поверхности деталей (износостойкости, твердости, электроизоляционных, магнитных и т.д.)

 

PVD метод позволяет наносить любые металлы, сплавы, оксиды, карбиды и нитриды c предварительной ионной очисткой/активацией поверхности, нагревом и ионным ассистированием в процессе напыления.

Технологические устройства:
• магнетрон — 4 шт.
• ионный источник — 1 шт.
• нагреватель — 1 шт.

  Цилиндрическая камера оснащена двумя дверями для удобства выгрузки/загрузки и обслуживания технологических устройств. Рабочая камера оснащена позиционируемой заслонкой технологических устройств. Установка работает под управлением SCADA-системы, позволяющей управлять процессом как с экрана на передней панели установки, так и удалённо через защищённое VPN-соединение при наличии подключения к сети интернет. Система обеспечивает разграничение прав доступа, сохранение всех технологических параметров в архив и их вывод в наглядном графическом представлении на экран установки.  
ПАРАМЕТРЫЗНАЧЕНИЕ
Установленная мощность, кВт17
Номинальная потребляемая мощность, кВт12
Напряжение питания, В380 (+10-15)%
Максимальное потребление тока по фазам,А32
Предельный вакуум, Па10^-4
Рабочий вакуум2х10^-3
Время достижения предельного вакуума (С момента включения), мин, 60, не более
Максимальная температура нагрева, град. С400
Нестабильность поддержания температуры, %3
Количество каналов газонапуска, шт. (опционально шт.)3(6)
Скорость вращения барабана с изделиями, об/мин5-30

Мы будем рады ответить на любые ваши вопросы

Отправьте ваш запрос