Предназначены для плазмохимического удаления фоторезиста с кремниевых пластин и плазмохимических зачистки при создании СБИС чувствительных к протеканию тока, наведенного ионным пучком.
Базовая модификация состоит из кассетного загрузчика пластин, ВЧ источника удаленной плазмы, столика нагрева (ламповый), столика охлаждения, сухой откачной системы, 4 канальной газовой системы, АСУ ТП на базе промышленного компьютера с панелью оператора.
Вакуумные установки серии AVI – это гибкие и оптимальные решения для организации научно-исследовательских работ, мелкосерийного и серийного производства выполненные на высокопроизводительной платформе, которая решает широкий круг задач плазмохимического травления и осаждения:
реактивное ионное травление (ВЧ, RIE);
реактивное ионное травление (DC, ионный источник с холодным катодом);
плазмохимического осаждения (PECVD, ПХО);
плазмохимическое травление с источником индуктивно-связанной плазмы (ICP Etch);
комбинированные процессы (ICP+RIE).