Установки плазмохимического удаления фоторезиста серии AVI (PR)

Применяются в процессах удаления слоя фоторезиста с поверхности пластин и плазмохимической зачистки при создании БИС и СБИС чувствительных к протеканию тока, наведенного ионным пучком.

Установка плазмохимического удаления фоторезиста AVI-401-FV-4

Установки серии AVI предназначены для плазмохимического удаления фоторезиста с кремниевых пластин (подложек) диаметром 100 – 150 мм.

Вакуумная установка представляет собой единое конструктивное решениеобеспечивающее загрузку и выгрузку пластин из кассеты в кассету. Обработка пластин может производиться в автоматическом режиме по составленным рецептам (при серийном производстве), а также в ручном (полуавтоматическом) для отработки технологических процессов.

Вакуумная камера

Выполнена из полированной нержавеющей стали. Источник удаленной плазмы расположен в верхней части камеры.  Внутри камеры расположен столик с инфракрасным нагревом, обеспечивающий механическое центрирование пластины относительно источника удаленной плазмы, а также механизм перемещения вверх/вниз для загрузки/выгрузки пластины. Симметричная откачка, заложенная во внутрикамерную архитектуру, повышает равномерность травления фоторезиста.

Источник удаленной плазмы

Состоит из кварцевой камеры, газового ввода и индуктивного высокочастотного источника плазмы, работающего на частоте 13.56 МГц. Соединение с вакуумной камерой  выполнено через газовый душ из кварца, что максимально снижает контакт между пластиной и разрядом. Индуктивный ВЧ источник спиралью навит вдоль кварцевой камеры, имеет водяное охлаждение и защитный экран

Вакуумная система

Откачка производится сухим винтовым насосом. Размещение форвакуумного насоса предусматривается в технической зоне с подключением к установке через вакуумную магистраль. Поддержка заданного давления осуществляется через дроссельный клапан, управляемый программой. Реализована функция мягкой откачки и плавного напуска.

Газовая система

Включает в себя газовые линии, выполненные из нержавеющей стали и фитинги с металлическими уплотнениями, автоматические регуляторы расхода газа с интерфейсом RS-485, клапаны из нержавеющей стали, газовый смеситель.

НаименованиеЗначение
Функциональное назначениеИспользуется при создании БИС и СБИС в процессах удаления слоя фоторезиста с поверхности пластины и плазмохимической зачистки перед ионным легированием и жидкостным травлением
Размер обрабатываемых пластин, мм100-150
Равномерность, %Не хуже 5 (на пластинах 150мм), не хуже 8 (на пластинах 150мм)
ВЧ источник удаленной плазмы13,56 МГц, 1000 Вт. Конструкция реактора не приводит к зарядовой деградации обрабатываемых транзисторных структур на пластине
Температура столика нагрева, С60-350
Скорость травления, мкм/минНе менее 3
Привносимая дефектностьДля частиц 0,2 мкм не более 0,15 частиц/кв.см.
Датчик окончания процессаСпектральный датчик регистрации момента окончания процесса удаления фоторезиста
Механическая производительностьНе менее 30 пластин/час, при времени травления 100с
Загрузка пластинКассетный загрузчик, шлюзовая камера, ручная загрузка
Газовые линииКислород;
Хладон 14;
Форминт газ;
Технический азот.
АСУ ТПВыполнена на базе промышленного PLC с HMI. Поддерживает следующие возможности:
автоматический и ручной режим работы;
разграничение прав доступа технолог/оператор;
составление рецептов длинной не менее 40 шагов;
изменение рецептов;
возможность копирования рецептов на внешний носитель;
запись и хранение результатов обработки партий.
Вакуумная системаСухая, 270 куб.м./час, с регулируемой дроссельной заслонкой
Предельный вакуум5Е-2 Па
Рабочий вакуумДо 100 Па
Измерение давленияВакуумный датчик баратрон и вакуумный датчик пирани
Класс помещения Для размещения в чистой комнате класса 7 ISO
Наработка на отказНе менее 180 часов
Электропитание380 В, 50 Гц, потребляемая мощность не более 18 кВА
Охлаждающая водаМаксимальный поток - не более 1 куб.м./час
входное давление - в диапазоне от 3 до 5 бар
входная температура - в диапазоне от 13-21 С
Сжатый воздухДавление от 5 до 7 бар
максимальный поток не более 3 куб.м./час
Тепловая вытяжкаНе более 500 куб.м./час
Кислотная вытяжкаНе более 12 куб.м./час
Срок гарантии12 месяцев

Мы будем рады ответить на любые ваши вопросы

Отправьте ваш запрос