Установка предназначена для осаждения слоёв поликристаллического кремния, оксидов кремния и нитридов кремния. Осаждения слоёв осуществляется в трех горизонтальных кварцевых реакторах с электропечами резистивного нагрева при подаче рабочих газов. Три печи могут работать независимо друг от друга для проведения различных технологических процессов.

Автоматизированная установка для проверки вакуумной герметичности узлов и их комплектующих SAVTECH LT-MS-1 предназначена для проверки полых разборных либо неразборных изделий, корпусов микросхем/плат на герметичность.

Вакуум-нагнетательная пропиточная установка предназначена для пропитки, заливки изделий различными компаундами и лаками в вакууме, под давлением и без него.

Установка термообработки пластин с 2 реакторами.

Применяется для осаждения поликристаллического кремния, оксидов, нитридов кремния.

Двухкамерная вакуумная печь SAVTECH SVF предназначена для отжига пьезорезонаторов.

Вакуумные камеры с двойной рубашкой охлаждения. Совмещенная конструкция на одном каркасе. Специально разработанные электрические вводы. Система охлаждения турбомолекулярного насоса. Легкодоступные и заменяемые элементы нагрева.

Установка используется для опытного производства для термоиспытаний и разработки технологических процессов.

Предназначена для высокотемпературного осаждения пленок на пластины.

Используется для мелкосерийного производства.

Установка магнетронного напыления в вакууме предназначена для двустороннего нанесения равномерных по физическим свойствам покрытий из металлов и их сплавов, керметов (К-20С, К-30С, К-50С) на подложки, изготовленные из различных материалов (ситалл, керамика, кремний, кварцевое стекло и др.)

Установка вакуумной пайки предназначена для герметизации металлокерамических корпусов всех типов методом пайки в вакууме, монтажа кристаллов на припои и пасты в гибридных микросборках, в изделиях силовой электроники.

Камера повышенно-пониженного давления и температуры SAVTECH APT200 предназначена для испытания изделий микроэлектроники и материалов при воздействии повышенной и пониженной температуры, повышенного и пониженного атмосферного давления.

Установка SAVTECH PC-150 предназначена для очистки поверхности электронных компонентов от загрязнений в ВЧ-плазме газового разряда. Также применяется в серийном производстве для травления Si3N4 с поверхности кремниевых пластин.

Печь  SAVTECH R650MC для групповой вакуумной пайки радиоэлектронных компонентов с технологией замещающей атмосферную водородную пайку. Размер рабочей зоны нагревательной платформы 640х320 мм позволяет загружать одновременно до 150-200 изделий.

Печь вакуумной пайки SAVTECH R4225 предназначается для пайки изделий электронной промышленности в вакуумной и газовой средах.  Обладает увеличенной рабочей зоной  в сравнении с серийными  установкам R200 и  R300

Установка предназначена для испытания кабельных изделий и изделий ЭКБ на воздействие переменного давления

Установка обеспечивает подготовку изделий, контроль герметичности изделий и заполнение их смесью газов с контролируемым парциальным давлением

Установка SAVTECH AVI204 предназначена для реализации высокоскоростного травления диэлектриков, кремния, полупроводниковых структур, металлов.

Установка U-RTD311 предназначена для резистивного осаждения алюминия и оксида кремния на поверхности деталей.