Вакуумная печь быстрого термического отжига RTP

Установка предназначена для быстрого термического отжига (RTA – Rapid Thermal Annealing), быстрого термического окисления (RTO – Rapid Thermal Oxidation), CVD графена и углеродных трубок, диффузии отжига контактов, после имплантационного отжига, отжига соединения проводников, нитридизации, силицидирования, сульфиризации и селенизаци.
Система управления
Установка оснащена автоматической системой управления на базе промышленного логического контроллера.
Система управления, контроля и автоматики обеспечивает выполнение следующих функций:
- Ручное (для технолога) и автоматическое управление;
- Регулирование (по введенной в контроллер программе);
- Управление напуском атмосферы и/или газа;
- Управление работой вакуумного оборудования;
- Контроль вакуума в камере и в вакуумной системе;
- Контроль подачи охлаждающей воды в водяных магистралях;
- Световую и звуковую сигнализацию предаварийных и аварийных состояний систем;
- Защиту от несанкционированного доступа к параметрам и настройкам программ технологического процесса и работы установки.
Наименование | Значение |
---|---|
Рабочий вакуум, Па | 1 |
Максимальная температура, °С | 1100 |
Скорость нагрева, °С/сек | 1 - 150 |
Скорость охлаждения, °С/сек | 1 - 100 |
Тип загрузки | Ручная |
Электропитание | 30 кВт, 380В, 50 Гц, 3 фазы |