Вакуумная печь быстрого термического отжига RTP
Вакуумная печь быстрого термического отжига RTP

Установка предназначена для быстрого термического отжига (RTA – Rapid Thermal Annealing), быстрого термического окисления (RTO – Rapid Thermal Oxidation), CVD графена и углеродных трубок, диффузии отжига контактов, после имплантационного отжига, отжига соединения проводников, нитридизации, силицидирования, сульфиризации и селенизаци.

Система управления

Установка оснащена автоматической системой управления на базе промышленного логического контроллера.

Система управления, контроля и автоматики обеспечивает выполнение следующих функций:

  • Ручное (для технолога) и автоматическое управление;
  • Регулирование (по введенной в контроллер программе);
  • Управление напуском атмосферы и/или газа;
  • Управление работой вакуумного оборудования;
  • Контроль вакуума в камере и в вакуумной системе;
  • Контроль подачи охлаждающей воды в водяных магистралях;
  • Световую и звуковую сигнализацию предаварийных и аварийных состояний систем;
  • Защиту от несанкционированного доступа к параметрам и настройкам программ технологического процесса и работы установки.
НаименованиеЗначение
Рабочий вакуум, Па1
Максимальная температура, °С1100
Скорость нагрева, °С/сек1 - 150
Скорость охлаждения, °С/сек1 - 100
Тип загрузкиРучная
Электропитание30 кВт, 380В, 50 Гц, 3 фазы